より少なく、
より無害に
温室効果ガスを
削減するための
取り組み

サムスン半導体は、温室効果ガスを持続的に削減するため、プロセスガスの使用量削減と処理率の向上、再生可能エネルギーの使用拡大、 プロセス効率化 によるエネルギー使用量の削減などの課題に取り組んできました。 まず、プロセスガスの投入量を減らすため、プロセス時間、 プロセス段階 、プロセス方式(Clean Recipe)を最適化して使用しています。 また、プロセスガス処理施設の効率を高めるRCS触媒を開発し、プロセスガスの処理効率を従来の90％から95％以上に高めました。 地球温暖化指数の低いプロセスガスも開発しています。 半導体の主なプロセスのうち、4つのプロセス(Etch, Diff, CVD, Metal)に使われる有機フッ素化合物(PFCs)に代わるガスを開発・採用しています。 2018年からは一部製品のプロセスでPFCsガスを代替しており、半導体研究所は代替ガスの 研究開発に 持続的に取り組んでいます。