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マスク(Mask)

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マスク [Mask] 半導体集積回路の製造プロセスのうち、フォトプロセスで使用する微細な電子回路が描かれているガラス板。 マスクは電子ビーム設備を用いて設計された回路パターンをガラス板の上に描き込んで作られる。 フォトプロセスはウェハの上に電子回路を描く段階で、半導体チップに数十億個の電子部品と、これをつなぐ回路線を描く作業である。 設備にマスクを入れて光を透過させ、感光液を塗ったウェハの上に微細な電子回路の絵ができるようにする。 半導体回路は微細なため、マスクをウェハより大きいサイズで製作する。 回路パターンが描かれたマスクは縮小撮影法で一つのチップに回路を刻み込み、その後も縮小撮影を繰り返してウェハ全面に描写していく。
마스크 (Mask)
마스크 (Mask)