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超純水

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半導体の製造に、水は欠かせない要素です。 そのため、通常、半導体事業所は円滑に用水供給ができる場所に位置しています。 半導体工程において、水は主に半導体製造工程、工程におけるガスの浄化(Scrubber)、クリーンルームの温湿度の調整などに使われます。 今回は、超微細半導体の製造工程で使われる水、「超純水」の概念についてご紹介します。 半導体と水、「超純水」とは？
반도체 제조에 사용되는 순수한 물, ‘초순수’
반도체 제조에 사용되는 순수한 물, ‘초순수’

超純水(UPW, Ultra Pure Water)とは、一般的な水に含まれる無機質や微粒子、細菌、微生物、溶存ガスなどを取り除いた、高度に精製された水です。 イオン成分を取り除いたという意味で、DIW(De-ionized Water)ともいいます。 半導体は、いわゆる8大工程と呼ばれる数多くのプロセスを繰り返して製造が行われます。 超純水は、半導体の実際の工程において、各工程の前後に実施される洗浄作業に主に使用されます。 エッチング工程以後、ウェハを削って不純物を除去したり、イオン注入工程後に残りのイオンを洗い流したりする場合です。 その他、ウェハの研磨や切断の際にも超純水が使われます。
반도체 공정에서 초순수의 역할
반도체 공정에서 초순수의 역할

超純水は、様々な工程で使用される最良の洗浄液といっても過言ではありません。 半導体生産工程における「超純水」の効果には、どのようなものがあるのでしょうか。 ナノメートル単位の超微細工程を取り扱う半導体は、各工程の前後に残る小さな粒子が原因で、問題が生じる可能性があります。 そのため、各工程の間にウェハを精製水で洗い流して清浄度を確保することで、半導体の生産性、つまり歩留まりを高めます。 半導体と水の「純粋な」世界、いかがでしたか。 優れた品質の半導体の背景には、少しの不純物も許さない「超純水」という水があることを、どうぞお忘れなく。 関連コンテンツを見る 半導体工程に欠かせない材料。 「フッ化水素」
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