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フォトレジスト(Photoresist)

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半導体工程の第一段階ともいえるフォト工程。 この工程で、半導体回路の形成に重要な役割を果たす素材があります。 フォトレジスト(Photoresist)です。 ここでは、フォトレジストの定義をはじめ、半導体工程での活用方法についてご紹介します。 半導体工程のコア素材、フォトレジスト(Photoresist)とは？
半導体工程のコア素材、フォトレジスト(Photoresist)とは？
半導体工程のコア素材、フォトレジスト(Photoresist)とは？

フォトレジスト(Photoresist)は、光に反応して化学的な変化を起こす感光液の一種です。 感光とは、物質が光を受けて、物理的または化学的変化を起こすことをいいます。 光が当たった部分またはその逆だけを残すので、特定のパターンを形成することができます。 写真を印画するプロセスにもこのような感光現象が活用されています。 しかし、フォトレジストは、写真の現像に使われる薄い液体の感光材にはない特徴があります。 光が当たった露光部とそうでない部分が、単に陰影として区分されるのではなく、溶解または凝固する変化を起こすのです。 このような特性があるため、光への露出有無によって版画のような凹凸を作ることもできます。 フォトレジストは、光への反応の仕方によって、露光部が溶ける「ポジ型」と、未露光部が溶ける「ネガ型」に分類されます。 ウェハに回路を転写する。 半導体工程の中のフォトレジスト
ウェハに回路を転写する。 半導体工程の中のフォトレジスト
ウェハに回路を転写する。 半導体工程の中のフォトレジスト

フォトレジストは、フォト工程でウェハ上に薄く均一に塗布されます。 これは、ウェハを写真の印画紙と同じような状態に仕上げることに似ています。 上に、半導体回路のパターンが描かれたマスクを置いて、その下に光を集めるレンズをセットした後、ウェハに向かって光を当てれば、マスクの回路パターンがウェハ上に残ります。 フォトレジストがあることで、微細回路の下地がウェハ上に描かれるわけです。 一方、ウェハに回路パターンが焼き付けられると、残りの部分と溶解された部分を選択的に除去するプロセスを経て、フォト工程は終了します。 ウェハ上に描かれた回路は、エッチング工程でより鮮明になり、その他の数多くの工程を経て半導体が完成します。 ここまでご覧いただいたように、「フォトレジスト」はウェハ上に回路パターンを形成するうえで欠かせないため、半導体工程になくてはならない素材です。 半導体産業において、素材の役割は非常に重要です。サムスン電子は、最先端の半導体をお客様にお届けできるよう、今後も素材研究や開発に全力で取り組んでまいります。
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