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最先端ノード

革新の先頭に立つサムスンファウンドリーは
業界を牽引し、
現在と未来のプラットフォームを支援する
FinFETおよびEUV(超紫外線)のプロセス技術を
初めて
開発しました。

高性能アプリケーションのためのプロセスノード

サムスンファウンドリーのテクノロジー専門家が多種多様なFinFETおよびEUV技術のポートフォリオを提供し、お客様のアプリケーションに適切な
プロセスノードを選択できるようお手伝いします。 サムスン電子は、お客様のシリコン分野での成功に必要な性能や電力、帯域幅、品質と精度を常に確保できるように、次世代の最先端GAA(ゲートオールアラウンド)技術に継続して投資を行っています。

サムスンファウンドリーのプロセスは、より優れた性能を保証するために
トランジスタとスタンダードセルでさらなる最適化が進められています。 最適化の段階には、柔軟な金属
スタックオプションと性能強化キットをはじめ、高性能なトラックライブラリが含まれます。 また、この
プロセスノードはシリコン生産量の増加に伴うすべてのファウンドリーサービスとサプライチェーンを支援します。