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蒸着

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蒸着 [Deposition] ウェハの表面に薄膜を形成し、電気的な特性を持たせる工程。 蒸着工程は、ウェハの表面に特定の物質で薄膜を形成し、電気的な特性を持たせるプロセスである。 このプロセスで分子または原子単位の物質の層をウェハ上に複数形成するが、薄膜の薄さと均一性によって[7]半導体[8]の品質が左右されるため、とても重要な工程の一つであると言える。 また、極めて薄く成膜するため、精密な技術が求められる。 蒸着は大きく分けて、物理気相成長法(PVD, Physical Vapor Deposition)と化学気相成長法(CVD, Chemical Vapor Deposition)に分類される。 物理気相成長法(PVD)は、主に金属薄膜の蒸着に用いられ、化学反応を伴わない。 一方、化学気相成長法(CVD)は、原料ガスの化学反応によって形成された粒子を外部エネルギーが付与された水蒸気を放射して蒸着させる方法で、導体や不導体、半導体の薄膜蒸着に広く使われている。
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