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[動画]ウェハ(mm)の上に描く下描き(nm)

前編:フォトリソグラフィおよびEUV

サムスン電子ファウンドリー事業部は、EUV Minimum Pitch Single Patterningをテーマにした論文をIITC(International Interconnect Technology Conference)に発表しました。この投稿は、論文とEUV技術の特徴をより多くの方にお伝えするために準備したものです。