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EUV 석판 기술의 일러스트 사진.

メモリー技術革新が導く新たな可能性

メモリー基盤技術の発展に伴い、コンパクトで高性能な半導体に対する業界のニーズは一層高まっています。
サムスンは業界に先駆けてDRAM拡張の限界を克服し、次世代メモリー技術をリードするEUV先端プロセッシングを実現しました。

業界初、
EUVプロセス適用

サムスンは、卓越したプロセス技術のノウハウにより業界で初めてDRAM生産にEUV技術を適用し、EUVプロセス技術を適用した製品を量産しています。

EUV, 첨단 프로세싱 기술

コンパクトなサイズ、より強力なパワー

EUV先端プロセッシング技術では従来の193nmではなく、より微細な波長の13.5nmを適用しました。
これにより、同じサイズでより多くの容量を保存できるため、今後高まる大容量化のニーズに十分に応えることができます。

193 nm DUV와 13.5 nm EUV의 비교 이미지

DUVの波長

193 nm

EUVの波長

13.5 nm

卓越したプロセス技術により向上された生産性

マルチパターニングに比べ、EUVはシングルパターニングを適用しており、高い精密度と工程時間の短縮が期待できます。
これにより、既存のプロセスに比べてウェハ生産効率が向上します。

단계별 다중 패턴과 매끄러운 단일 단계 패턴의 비교 이미지입니다.

複数のステップ

マルチパターニング

シングルステップ

シングルパターニング

先進技術力により信頼できる高品質

サムスンはこれまでに培った工程技術のノウハウと先進EUV技術導入を通じて、先端プロセスでの品質を早期に改善し、信頼性を確保しました。
EUV技術を適用したDRAM製品は、品質・技術力ともに認められています。

웨이퍼를 들고 있는 사람의 일러스트 사진

未来へのたゆまぬ挑戦

サムスンは、先進的なEUVプロセス技術を通じてDRAM産業の新しいパラダイムを提案します。
そして、革新を続け、次世代メモリー製品への道を切り拓いていきます。

보드 위에 탑재된 DRAM의 일러스트 사진
  • すべての製品仕様は内部結果を反映したものですが、ユーザーのシステム構成により変動する場合があります。
  • すべての製品画像は例です。実際の製品とは異なる場合があります。
  • サムスン電子は、事前の予告なく製品の画像や説明書を変更することがあります。