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[新芯辞典] 光刻胶

光刻胶(Photoresist)是用于绘制半导体电路的重要材料。在半导体光刻工艺中,将光刻胶薄而均匀地涂覆在晶圆上,光刻胶可以对光产生化学反应,只保留受光或未受光的部分,绘制出特定的电路图形。