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步进曝光

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步进曝光 通过穿过掩膜的光线在晶圆上绘制电路的步骤。 虽然该术语用于指代调整进入相机快门的光量,但半导体工艺中的曝光指的是选择照射光的步骤。 步进曝光指光线通过带有电路图案的掩膜,在晶圆表面的一层光敏光刻胶上形成电路图案。将掩膜放置在晶圆上并曝光,通过光将电路图案从掩膜转移到晶圆上。 这一过程在步进曝光机中完成。将掩膜放置在步进曝光机中,然后使光通过掩膜传输到涂有光刻胶的晶圆上,从而在晶圆上创建微电路图。