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三星开发基于 HKMG 的第五代双倍数据速率 (DDR5) 内存;适用于带宽密集型优质计算应用程序

512GB 容量 DDR5 模块由 8 层硅通孔 (TSV) 结构组成,HKMG 材料可降低 13% 的能耗,同时其速度是第四代双倍数据速率内存 (DDR4) 的两倍。

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内存技术领先企业三星电子公司今日宣布,公司已利用基于高介电常数金属闸极 (HKMG) 工艺技术的 512GB DDR5 模块扩展了 DDR5 DRAM 存储产品组合。新款 DDR5 的性能可达 DDR4 的两倍以上,最高可达每秒 7200 兆比特 (Mbps),将能够协调超级计算、人工智能 (AI) 和机器学习 (ML) 中的高级计算需求和高带宽工作负载,以及数据分析应用程序。 “三星有逻辑和内存能力,能够将 HKMG 优质逻辑技术整合到内存产品开发中。”三星电子公司 DRAM 内存规划/启用团队副总裁 Sohn Young-Soo 说,“通过将此类工艺创新引入 DRAM 制造,我们能够为客户提供高性能、高能效的内存解决方案,为医疗研究、金融市场、自动驾驶、智能城市等所需的计算机提供动力。” “随着要移动、存储和处理的数据数量呈指数级增长,向 DDR5 的过渡处于云数据中心、网络和边缘部署的关键拐点,”英特尔公司内存和 IO 技术副总裁兼总经理 Carolyn Duran 说,“英特尔的工程团队与三星等内存企业紧密合作,提供快速、节能的 DDR5 内存,该内存性能优化,并与我们即将推出的代号为蓝宝石激流 (Sapphire Rapids) 的英特尔 Xeon 可扩展处理器兼容。” 三星 DDR5 将采用卓越的 HKMG 技术,该技术传统上用于逻辑半导体。随着 DRAM 结构的不断变小,绝缘层变薄,导致泄漏电流升高。通过使用HKMG材料替代绝缘体,三星 DDR5 将能够减少泄漏,并在性能上达到新的高度。这种新内存的功耗也将减少约 13%,因此特别适合能源效率日益重要的数据中心。 HKMG 工艺于 2018 年在三星的 GDDR6 内存中采用。通过扩大其在 DDR5 中的使用,三星进一步巩固了其在下一代 DRAM 技术领域的地位。 三星 DDR5 通过硅通孔 (TSV) 技术,将 8 层16Gb DRAM 芯片堆叠起来,提供容量为 512GB 的芯片。TSV 于 2014 年在 DRAM 中使用,当时,三星推出了容量高达 256GB 的服务器模块。 三星目前正在对其 DDR5 内存产品系列的不同变体进行抽样,以供客户验证,并最终使用其优质产品进行认证,以加速 AI/ML、超大规模计算、分析、网络和其他数据密集型工作负载。 三星电子株式会社简介 三星电子以变革性的想法和技术激发世界,创造未来。该公司正在重新定义电视、智能手机、可穿戴设备、平板电脑、数码电器、网络系统和内存、系统 LSI、晶圆代工和 LED 解决方案。有关最新资讯,请登录三星电子新闻中心 http://news.samsung.com.

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