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三星电子的新建 EUV 生产线开始量产

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引领全球先进半导体技术的三星电子今天宣布，该公司在韩国华城新建的先进半导体生产线已开始量产。 该设施 (V1) 是三星首个专用于极端远紫外 (EUV) 光刻技术的半导体生产线，使用 7 纳米 (nm) 及以下工艺节点生产芯片。V1 生产线于 2018 年 2 月动工，2019 年下半年开始试验晶圆生产。该生产线的首批产品将在第一季度交付客户。 三星电子总裁兼晶圆代工业务负责人 ES Jung 博士表示：“除领先的技术和设计基础设施外，卓越的生产能力也是晶圆代工业务的重要因素。随着生产的不断升级，V1 生产线将增强我们响应市场的能力，并拓展为客户提供支持的机会。” 目前，V1 生产线使用 7 纳米和 6 纳米工艺技术生产先进的移动芯片，并将继续调整以采用更先进的芯片技术，包括 3 纳米工艺节点。 根据三星的计划，到 2020 年底，V1 生产线的累计总投资将达 60 亿美元，7 纳米及以下工艺节点的总产能预计将达到 2019 年水平的三倍。全球市场对个位数工艺节点晶圆代工技术的需求增长迅速，V1 生产线预计将与 S3 生产线一起，为响应这一需求发挥关键作用。 随着半导体的外形变得越来越小，采用 EUV 光刻技术也变得越来越重要，因为它可以在晶圆上将复杂的电路变得更小，成为 5G、人工智能和汽车等下一代应用的理想选择。 在 V1 生产线投产后，三星目前在韩国和美国的晶圆代工生产线总数已达六条，包括五条 12 英寸生产线和一条 8 英寸生产线。（参见下图） * 三星晶圆代工的全球制造基地
名称6 号生产线S1 生产线S2 生产线S3 生产线S4 生产线V1 生产线
节点180~65 纳米65~8 纳米65~11 纳米10 纳米~65 纳米~7 纳米~
地点韩国器兴美国奥斯汀韩国华城
晶圆尺寸8 英寸12 英寸
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