进入正文

极紫外光刻 (EUV):动态随机存取存储器 (DRAM) 悄无声息的变革为未来发声

  • 邮件
EUV技术的插图图片。 EUV,尖端处理技术
EUV技术的插图图片。 EUV,尖端处理技术
更小、更快、更好。小型化和改善向来是 DRAM 市场的关键词。只是因为制造商想要证明他们可以做到,因为始终存在对前代产品创新和改善的需求,这是从未有过的情况。最近的创新已经为黄金时段做好准备,并将极大地改变设备的外观和功能。实现这一切的技术是极紫外 (EUV) 光刻技术。 内存市场竞争激烈,然而,任何真正震撼行业的措施,都不可能在朝夕间推出。因此,现在就为未来做好准备至关重要。EUV 为 DRAM 提供了光明的未来,但目前整个行业应用的是深紫外 (DUV) 光刻技术。DUV 非常适合目前的半导体产品。然而,随着 EUV 开始商业化推出,勇敢解决当前工艺的局限性并以新的方式制造内存的时刻到来了。 新的 EUV 世界 环顾您的四周,您可能会看到一项连接到更广泛的设备网络的技术。确实,是物联网 (IoT)、人工智能 (AI) 和第五代移动通信技术 (5G) 在要求改变 DRAM 的发展方式。内存现在需要更精细的处理,而 EUV 工艺中使用的令人难以置信的高质量紫外光正是行业创建 DRAM 解决方案所需的,该类解决方案将在接下来的几年内广泛推出。 EUV 关乎规模。让我们看看摩尔定律,它承诺每两年使计算机的处理器速度或整体处理能力提升一倍。尽管我们看到,过去我们的确遵守这一规则,但遵守这一规则正变得越来越困难。研究人员一直思考的首要任务是使内存能够在同一区域和尺寸中存储更多的容量,以满足未来对高容量内存日益增长的需求。 得益于其支持的独特光刻方法,EUV 带来了许多优势。而以前,行业在很大程度上依赖于迭代改进,EUV 实现的改善将改变游戏规则。 半导体制造业的光刻技术与胶片摄影类似。它使用光将图像传输到基底,在光刻中,基底是一个硅晶圆。这个过程通过光穿过掩模发挥作用,掩模中包含电路图形的模板和一系列光学镜头,能够缩小图像,并投射到硅片上。在进行额外的光和化学处理后,电路图形仍保留在晶圆上。 向前飞跃 差异在此:DUV 光刻使用 193 纳米波长,而 EUV 光刻使用 13.5 纳米波长——这是显著的改善。这样可以绘制更精细的电路,从而可以在相同的表面积中存储更多的数据。使电路更精细意味着更多的逻辑门能够容纳在单个芯片内。因此,这些芯片继而变得更加强大和节能。在部署 EUV 时,芯片的表面面积得到更有效的使用,因此,难怪业内众多企业争先恐后要求完善自己的生产线技术。 使用 EUV 工艺制造的芯片尺寸虽小但功能强大,更加紧凑但能力更大。这意味着处理能力和生产率更强。这也意味着智能手机、物联网设备和服务器等应用中的多功能性进一步提高,在这些应用中,尺寸与功率比很重要,而且,能效也是受到追捧的。 此外,它还有一项优势。DUV 工艺通常使用多个掩模来创建单个晶圆,因为目前芯片所需的电路复杂性太高,不能只使用单个掩模。但是,使用 EUV 时,可以用更小、更精细的形式绘制电路,这意味着可以使用无缝的单图案设计。使用的掩模越多,所需的处理步骤也就越多。这延长了生产交货期,从而延长了上市时间。单图案最终带来更高产量,并为客户节省了时间和成本。 先动优势 三星在 EUV 程序上占有优势。得益于其优质的半导体制造技术和专业技能,公司成功将 EUV 工艺应用于 DRAM 生产。三星已经大规模生产特定的 EUV 应用产品,并准备在不久的将来提高其大规模制造能力。 今年早些时候,三星宣布已交付了 100 万个基于 EUV 技术的 10 纳米级 (D1x) DDR4(第四代双倍数据速率)DRAM。这些模块已完成全球客户评估,这一成就为 EUV 更卓越的应用打开了大门,为高级个人计算机、手机、企业服务器和数据中心等许多应用创建解决方案。 今年初,公司开始在韩国华城的三星半导体新生产线大规模生产——这是一条专门的 EUV 技术生产线。现在,三星正在进一步扩展技术界限,公司刚刚推出了一条基于 10 纳米级工艺技术的 16 千兆字节 (Gb) 第五代低功耗双倍数据速率内存 (LPDDR5) 移动 DRAM 芯片的大规模生产线。三星将 EUV 应用于该工艺。 “三星”这一名称并不仅仅与优质产品相关;它也因创新历史和高品质而赢得了信誉。公司迅速行动,因为他们很早就知道 EUV 是未来的趋势,抢先将 EUV 工艺应用于设备解决方案领域。 未来 这是一次历程,而我们尚未抵达目的地。三星知道这一点,因此,正在采取措施解决任何缺陷,以便为未来做好准备。公司已经制定了路线图,准备进一步部署使用 EUV 工艺的 DRAM 解决方案。 如今,EUV 有着巨大潜力,未来,它将转变大量应用程序,但在那之后的事情又有谁能预知?为客户以及整个行业提供优势,是三星努力实现的首要目标。 三星电子株式会社简介 三星电子以变革性的想法和技术激发世界,创造未来。该公司正在重新定义电视、智能手机、可穿戴设备、平板电脑、数码电器、网络系统和内存、系统 LSI、晶圆代工和 LED 解决方案。有关最新资讯,请登录三星电子新闻中心 http://news.samsung.com.


* DRAM - 动态随机存储器* DDR - 双倍数据率同步动态随机存储器
* LPDDR - 低功耗双倍数据率同步动态随机存储器* EUV - 极紫外光刻