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超纯水

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水是制造半导体的关键。这就是半导体制造设施通常选择供水可靠地方的原因。半导体工艺中，水主要用于半导体制造、工艺气体的清洗（洗涤器）和调节洁净室的温度和湿度。接下来，我们一起了解一下亚微米半导体制造过程中使用的“超纯水”。 半导体和水：“超纯水”是什么？
반도체 제조에 사용되는 순수한 물, ‘초순수’
반도체 제조에 사용되는 순수한 물, ‘초순수’
超纯水（UPW）是经过高度纯化的水，去除了所有矿物质、颗粒、细菌、微生物和溶解气体，也被称为去离子水（DIW）。因为，去除了所有离子成分。半导体需要经过一系列制造步骤，这些步骤被称为8道基本工序。超纯水主要用于这些半导体步骤开始前和完成后的清洁。包括完成蚀刻步骤后，清洗小晶圆碎片，或者在离子注入后清洗残留离子。超纯水也可用于抛光或切割晶圆。
반도체 공정에서 초순수의 역할
반도체 공정에서 초순수의 역할
超纯水作为终极清洁剂，广泛应用于多种工艺。那么，半导体工艺中使用“超纯水”有何优势？半导体设计超精细纳米级工艺，即使是每个工艺完成后，残留的最微小的斑点也会造成严重错误。通过在每个步骤之间使用超纯水清洁晶圆，可以保持最高的清洁度标准，并最大限度提高半导体生产效率，即产量。这就是“超纯水”在半导体生产中的作用。每一个世界领先的半导体背后都有超纯水确保最微小的杂质不会从上一步骤传递到下一步骤。 点击查看相关内容 氟化氢
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